PVD真空电镀工艺对环境的要求
真空涂层工艺衬底(基底)表面的清洁和处理非常重要。基底表面污染来自各种灰尘、抛光膏、油、汗渍等附着在零件加工、传输、包装过程中的物品;湿空气中产生的氧化膜;吸收和吸附的气体。这些污垢基本上可以通过去除油或化学清洗来去除。
这种真空装置(设备)对真空卫生的要求:所谓的常规真空工艺是指没有特殊要求的真空工艺过程。它们都需要没有积累的污染源。1.真空中的所有真空设备部件。无灰尘、铁屑、锈蚀;
2.真空电镀设备的真空室外观应光滑,无软组织、气孔、内焊等影响真空的缺陷;
真空室内运动部件不得使用机油作为润滑剂,3高真空设备。使用饱和蒸气压低的扩散泵油和硅油作为润滑剂;
窗户的密封件应涂上高真空油脂;相对湿度不高于清洁空气循环环境的70%。4.真空电镀设备一般应在温度下工作。
1530℃。冷却水进水温度不高于25℃。电真空结构数据除了具有良好的机械性能外,还应满足其他性能的要求。