pvd真空电镀可以提高物体表面的耐磨性

2021-12-13 11:01:41 100

pvd真空电镀是真空应用领域的一个重要方面。它是一种基于真空技术,利用物理或化学方法吸收电子束、分子束、离子束、等离子体束、射频和磁控制等一系列新技术,为科学研究和实际生产提供薄膜制备的新技术。简而言之,在真空中蒸发或溅射金属。合金或化合物称为pvd真空电镀,在涂层物体的底部或底部固化和沉积。pvd真空电镀技术一般分为物相沉积(PVD)技术和化学气相沉积(化学气相沉积)技术。

众所周知,只要在某些材料的表面涂一层薄膜,这些材料就可以具有许多新的、良好的物理和化学性质。20世纪70年代,电镀和化学电镀是物体表面涂层的主要方法。在前者中,电解质通过电解和电解离子作为另一个电极的基板表面进行电解。因此,衬底必须是良好的导体,薄膜厚度难以控制。后者是一种化学还原方法。薄膜材料必须制成溶液,并能迅速参与还原反应。这种涂层方法不仅薄膜结合强度差,而且涂层不均匀,难以控制。同时,会产生大量废液,造成严重污染。因此,这两种被称为湿涂层的涂层受到了极大的限制。

与pvd真空电镀技术相比,pvd真空电镀技术具有以下优点:

1.膜和基底选择广泛,可控制膜厚,制备各种功能的功能膜。

2.真空下制备薄膜,环境清洁,不易污染,可获得致密性好、纯度高、涂层均匀的薄膜。

3.薄膜与基材结合强度好,薄膜牢固。

4.干涂层不会产生废液或环境污染。

pvd真空电镀技术主要包括真空蒸发涂层、真空溅射涂层、真空离子涂层、真空束沉积、化学气相沉积等。