PVD真空电镀的特别之处在哪里

2020-04-08 15:25:42 620

PVD真空电镀是一种物理沉积现象。即在真空状态下注入氩气,氩气撞击靶材,靶材别离成分子被导电的货品吸附构成一层均匀润滑的外表层。那PVD真空电镀的有哪些特点呢,下面就简单介绍了六点。

1、PVD真空电镀膜所取得的金属膜层很薄(一般为0.01~0.1um),可以严格复制出啤件外表的形。

2、工作电压不是很高(200V),操作便利,但设备较昂贵。

3、蒸镀锅瓶容积小,电镀件出数少,出产效率较低。

4、只限于比钨丝熔点低的金属(如铝、银、铜、金等)镀饰。

5、对镀件外表质量要求较高﹐通常电镀前需打底油来弥补工件外表缺陷。

6、PVD真空电镀膜可以镀多种塑料如﹕ABS、PE、PP、PVC、PA、PC、PMMA等。