PVD真空电镀是一种物理沉积现象。即在真空状态下注入氩气，氩气撞击靶材，靶材别离成分子被导电的货品吸附构成一层均匀润滑的外表层。那PVD真空电镀的有哪些特点呢，下面就简单介绍了六点。
1、PVD真空电镀膜所取得的金属膜层很薄(一般为0.01~0.1um)，可以严格复制出啤件外表的形。
2、工作电压不是很高(200V)，操作便利，但设备较昂贵。
3、蒸镀锅瓶容积小，电镀件出数少，出产效率较低。
4、只限于比钨丝熔点低的金属(如铝、银、铜、金等)镀饰。
5、对镀件外表质量要求较高﹐通常电镀前需打底油来弥补工件外表缺陷。
6、PVD真空电镀膜可以镀多种塑料如﹕ABS、PE、PP、PVC、PA、PC、PMMA等。