PVD真空电镀设备添加剂的作用

2020-04-02 12:12:14 550

 PVD真空电镀设备进行电吸附,电活性物质粒子搬迁至阴极邻近的外赫姆霍兹层.然后,阴极电荷传送至电极上吸附的局部去溶剂化离子或简略离子,构成吸附原子,后,吸附原子在电极表面上搬迁,直到并入晶格。只有在必定的过电位下,金属的电堆积过程才具有足够高的晶粒成核速率、中等电荷搬迁速率及提足够高的结晶过电位,然后保证镀层平坦致密光泽、与基体材料结合结实。而恰当的PVD真空电镀添加剂能够提高金属电沉积的过电位,为镀层质量供给有力的保证。大多数情况下,添加剂向阴极的分散决议着金属的电沉积速率。这是因为金属离子的浓度一般为添加剂浓度的100~105倍,对金属离子而言,电极反响的电流密度远远低于其极限电流密度。添加剂分散控制情况下,大多数添加剂粒子分散并吸附在电极表面张力较大的凸突处、活性部位及特别的晶面上,致使电极表面吸附原子搬迁到电极表面凸起处并进入晶格,然后起到整平光亮作用。PVD真空电镀设备根据电镀中占控制位置的非分散因素,可将添加剂的非分散控制机理分为电吸附机理、络合物生成机理离子对机理、改动赫姆霍兹电位机理、改动电极表面张力机理等多种。