对于PVD真空电镀你了解有多少?

2021-03-01 11:36:31 213

PVD真空电镀的定义?

PVD是英文Physical Vapor Deposition(物相堆积)的缩写,是指在真空条件下,采用低电压、大电流的电弧放电技术,使用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离,使用电场的加快作用,使被蒸发物质及其反应产品堆积在工件上。

PVD真空电镀原理是什么?

主要电弧-溅射技术,使用阴阳极之间的放电离化氩气,使氩离子在作为阴极的靶材电场的作用下加快轰击靶材,溅射出许多的靶原子,中性的靶原子或离子堆积在基片上,构成固体薄膜。


PVD真空电镀与水镀有什么不一样?

水镀归于化学作用镀膜,可镀制多种材料膜层,出产过程中会对环境造成严峻的污染,保色时长不如PVD。

真空电镀归于物理堆积作用镀膜,高温炉内挂镀只可以电镀小件不锈钢产品,出产过程绿色环保无污染,契合欧美环保检测规范,保色时长较好。